八氟丙烷 ( C₃F₈ )

八氟丙烷 (C3F8) 用于等离子体刻蚀。与 C2F6 相比，C3F8 的碳氟比 (C/F) 更高。当 C3F8 暴露于刻蚀过程中产生的射频场时，会产生气体等离子体，该等离子体能够以优异的选择性刻蚀二氧化硅或氮化硅。